優質推薦
這裡蒐集了電漿蝕刻的各類服務、物品或商品的精選網站, 讓你搜尋東西一次到位,盡情比較。
地址 : 台北市萬華區西園路2段290之4號3樓
統一編號 : 16290510
電話 :
負責人 : 林阿田
營業項目 : 1 服飾品批發業。2 服飾品零售業。3 國際貿易業。
  • 網站
請問:電漿蝕刻(乾式蝕刻)是指怎樣的蝕刻方式呢??還有需要什麼設備嗎?何謂電漿?還有他的蝕刻過程是什麼呢?能詳細介紹嗎? 謝謝^^
電漿蝕刻 蝕刻係利用化學反應的方式吃出所需要圖案。利用水溶液的方式進行蝕刻又稱濕式蝕刻法,具有蝕刻速度快、等方向性蝕刻、蝕刻殘留液不易處理的後遺症等特性。因為其化學反應進行的方式發生在固體與液體接觸的地方,基本上只 要有固 ...
在濕蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的,而乾蝕刻通常是一種電漿蝕刻 (plasma etching),電漿蝕刻中的蝕刻的作用,可能是電漿中離子撞擊晶片表面的物理作用,或者可能是電漿中活性自由基 (Radical) 與晶片表面原子間的化學反應,甚至也 ...
電漿蝕刻 蝕刻係利用化學反應的方式吃出所需要圖案。利用水溶液的方式進行蝕刻又稱濕式蝕刻法,具有蝕刻速度快、等方向性蝕刻、蝕刻殘留液不易處理的後遺症等特性。因為其化學反應進行的方式發 ...
AST聚昌科技Cirie-200高密度電漿蝕刻系統,係針對2~6吋ⅢⅤ族砷化鎵MMIC、GaN藍光LED、LD、VCSEL、HBT製造廠商,提供高效能、高可靠度蝕刻製程全方位解決方案,將可支援各種介電質蝕刻、高深寬比溝渠蝕刻、金屬蝕刻及GaN、InP、DBR等化合物半導體蝕刻等應用。
感應耦合電漿離子蝕刻技術 (I) Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch (I) 簡介 本中心的感應耦合電漿離子蝕刻製程技術,主要是利用電漿來進行蝕刻,具有較佳的非等向性蝕刻。感應耦合電漿離子蝕刻 (ICP) 為目前矽深蝕刻最主要的技術之一,高深寬比蝕刻製 ...
電子工程專輯首頁 > 關鍵字 電漿蝕刻 搜尋結果 ... 諾發新硬式蝕刻光罩薄膜協助改善7%良率 2009-12-09 諾發系統(Novellus)宣佈開發出一系列ASHABLE硬式蝕刻光罩(AHM)薄膜,可達到比目 ...
Paul Werbaneth, Tegal Corporation, Petaluma, California 電漿蝕刻製程可以適用於滿足製造微機電系統(micro-electromechanical systems,MEMS)元件的挑戰,包括:矽的高深寬比(high aspect ratio)結構、薄的貴重金屬(noble metal)、壓電(piezoelectric)
中文名稱 多腔體電漿蝕刻系統 英文名稱 Multi-chamber Plasma Etching System(P5000E) 儀器廠牌型號 Applied Materials / Precision 5000 購置年限 1990 年製 功能 蝕刻 二氧化矽、氮化矽、複晶矽 放置地點 固態電子系統大樓 1 樓 R127 實驗室 (TEL:**7795) 機台狀況
電漿處理設備 ‧ 電漿清潔及表面改質系統 ‧ 高密度電漿蝕刻設備 ‧ 電漿輔助化學氣相沉積設備 ‧ 活性離子蝕刻設備 ‧ 法國阿爾卡特高密度電漿深蝕刻機 ‧ 去殘膠電漿系統 LCM電漿清洗機 ‧ 電漿清潔及表面改質系統